スパッタ装置 CFS-12P-100

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詳細情報

多量の大型基板に多層の膜を形成する事の出来る装置です。
主な用途としては、サーマルプリントヘッド、抵抗器、シリコンウエハ、コンデンサ、各表示パネル用透明電極の形成等。

所要冷却水:20ℓ/min 水温25℃以下
所要圧空:4〜7kg/cm2
ガス:Ar 0.5〜2kg/cm2

設置所要スペース:
本体 1500W×1350D×2250H
電源 570W×1000D×1025H

商品情報

リストNO 1638
品名
型式
スパッタ装置
CFS-12P-100
メーカー 芝浦
仕様1 スパッタ室Φ1000×250hmm
仕様2
マグネトロン 8” 3基 逆スパッタ付
仕様3 RF 4KW 1台 オートマッチングBOX付
仕様4 クライオ 12” RP 1200L/min
製造年 1991年

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