イオンプレーティング装置 EBX-10DIP

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詳細情報

本装置は、半導体素子やディスプレーパネル等の蒸着膜に使用されるものです。
真空槽は円筒2分割型となっており、槽の半分が開閉出来る構造となっているため、量産用の装置として使用可能で、日常の槽内クリーニングが容易です。

基板加熱：常用　250℃　最大　300℃
所要冷却水：2kg/cm2G　10ℓ/min
所要空圧：5kg/cm2G

外形寸法：
本体　約1520W×880D×1800H
操作ラック　

商品情報

リストNO 1523
品名
型式		 イオンプレーティング装置
EBX-10DIP
メーカー アルバック
仕様1 SUSチャンバーΦ650×800hmm
仕様2
前扉式 EB 10KW 4点式 1台、抵抗 2基
仕様3 公転冶具、DC 2KV、RF 500W
仕様4 DP 10” RP 950L/min
製造年 1982年

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