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No. | 品名 型式 |
メーカー | 概略仕様 | 製造年 | 価格 |
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1165 | 電子銃 EGL-35 |
アルバック |
270°偏向型 1点式 10KW ルツボ 1個 40cc Φ50×Φ41×深25mm 適用電源 : HP-1010F,HP-1610F |
1982年 | ****** |
1172 | 電子銃 EGL-20M |
アルバック |
270°偏向型 4点式 6KW ルツボ 4個 20cc Φ50×Φ46×深12mm 適用電源 : HP-1010F |
1982年 | ****** |
1173 | 電子銃 EGL-20M |
アルバック |
270°偏向型 4点式 6KW ルツボ 4個 20cc Φ50×Φ46×深12mm 適用電源 : HP-1010F |
1982年 | ****** |
1292 | チャンバー付真空排気装置 CME90 |
トッキ |
SUS チャンバーΦ900×900hmm 前扉式 クライオ 22”メカブ 600m3/h RP 1800L/min |
1992年 | ****** |
1349 | スパッタ装置 FTS-LAB101 |
大阪真空 |
スパッタ室 175×240×300hmm 対向式 スパッタ電極 Φ80 1対 RF 1KW 基板加熱 700℃ ターボ 200L/S RP 360L/min |
1991年 | ****** |
1359 | ベルジャー付真空排気装置 EBS-10A |
アルバック |
SSベルジャーΦ650×650hmm カラーΦ450×150hmm 空圧排気型 DP 10” RP 650L/min |
1974年 | ****** |
1423 | ドライエッチング装置 DEA-503 |
キヤノンアネルバ |
SUSチャンバー Φ600×220hmm 平行平板型 RF 1KW 電極Φ470 1基 DP 10” メカブ 100m3/h RP 1300L/min |
1986年 | ****** |
1431 | インライン式スパッタ装置 SPH-3022 |
昭和真空 |
ターゲット 5”×7” 4基 縦型両面可 トレイ 300L×150hmm ローダー20枚 DC 2KW 2台 加熱 150℃ クライオ 6” 2台 8”1台 RP 650L/min 3台 |
1992年 | ****** |
1448 | ベルジャー付真空排気装置 EVD-500A |
キヤノンアネルバ |
SUSベルジャーΦ500×750hmm φ90窓2個 カラーΦ500×130hmm CF70ポート15個 排気自動 DP 8” RP 650L/min |
1984年 | ****** |
1451 | 高周波電源 RF2000 |
パール工業 |
13.56MHz 2KW 外形寸法 535×770×760hmm 手動整合器付 入力 200V 3相 |
1985年 | ****** |
1464 | イオンプレーティング装置 SIP-800 |
昭和真空 |
SUSベルジャーΦ800×1100Lmm 横型 前扉式 EB 10KW 3点 クライオ 20” メカブ 600m3/h RP 1500L/min |
1987年 | ****** |
1498 | 電子銃 EGL-35M |
アルバック |
270°偏向型 4点式 10KW ルツボ 4個 40cc ×2 10cc ×2 X軸、Y軸偏向可能 適用電源 :HP-1010F,HP-1610F |
1989年 | ****** |
1523 |
イオンプレーティング装置 EBX-10DIP |
アルバック |
SUSチャンバーΦ650×800hmm 前扉式 EB 10KW 4点式 1台、抵抗 2基 公転冶具、DC 2KV、RF 500W DP 10” RP 950L/min |
1982年 | ****** |
1534 |
高電圧電源 SR100P5 |
スペルマン |
電圧 DC +100KV 電流 50mA 入力 200V 3相 正極性 外形寸法 482×482×266hmm |
1985年 | ****** |
1540 |
電子銃 EGK-3 |
アルバック |
225°偏向型 1点式 5KW ルツボ 1個 2.6cc Φ21×Φ15.6×深10mm 適用電源 : HP-510C |
1986年 | ****** |
1555 |
ドライエッチング装置 OMPM-306B |
東京応化 |
平行平板 φ230電極 RF 300W 2台 ガス O2、CF4、SF6、C2Cl2F4 ターボ 4” RP 650L/min |
1990年 | ****** |
1574 | 電子銃 EBG-102F6RAC |
日本電子 |
180°偏向型 3KW フィラメント自動交換機構付き るつぼ別 適用電源 :JST-10F、JST-16F |
1989年 | ****** |
1584 | プラズマ銃電源 EPC-3000 |
日本電子 |
制御方式:手動・半自動・外部制御切替 半自動・外部制御時はシーケンサ制御 制御機器:カソード加熱電源・コイル電源 放電電源・マスフローコントローラ |
2000年 | ****** |
1591 | スパッタ装置 SPF-410H |
キヤノンアネルバ |
スパッタ室 Φ400×140hmm マグネトロン12”1基 RF 5KW 真空計付 基板加熱有 DP 6”RP 600L/min |
1980年 | ****** |
1602 |
高周波電源 PLASMALOC2-HF |
ENI |
100kHz〜450kHz 1.4kW RFコネクター Type C 入力 115V ±8% 35amps max. 外形寸法 W432×D650×445hmm 重量 87kg |
1995年 | ****** |
1619 |
真空蒸着装置 EBX-10C |
アルバック |
SUSチャンバーΦ650×800hmm 前扉式 抵抗加熱 3基 真空計 膜厚計 公転冶具付 クライオ 10” RP 950L/min |
1982年 | ****** |
1651 | 電子銃用電源 JST-10F |
日本電子 |
高電圧 DC -4kV〜-10kV 0〜1A 最大出力 10KW X・Y軸スイープ付 外形寸法 W570×D760×1545hmm |
2003年 | ****** |
1655 | 高周波電源 AX1000LFII |
ADTEC |
430kHz 1KW 強制空冷 外形寸法 430W×445D×220hmm 整合器トランス付 入力 200V 3相 |
2002年 | ****** |
1660 | 自動整合器 DMK-18 |
京三製作所 |
27.12MHz 1.8kW 自動タイプ 冷却方式 水冷 2台有 |
2000年 | ****** |
1663 | 自動整合器 MBK75 |
京三製作所 |
13.56MHz 7.5kW 自動タイプ 水冷 コントローラー MAK5A |
1999年 | ****** |
1669 | 2ポイントコントローラー ST-2PNS |
日本電子 |
JST-F EB電源用 外形寸法 480×350×50hmm 電子ビーム照射量の比 100:1〜1:100 |
1998年 | ****** |
1671 | 電子銃 980-7310 |
キヤノンアネルバ |
1点式 10KW 2台有 ルツボ 10ml φ34×φ18×深18mm スキャンニング範囲X:±15mm Y:±8mm EGP-210RS等 |
1996年 | ****** |
1681 | 高周波電源 AX1000II |
ADTEC |
13.56MHz 1KW 空冷 外形寸法 430W×536D×220hmm 整合器別 入力 200V 3相 |
1996年 | ****** |
1689 | プラズマCVD装置 PED-301 |
キヤノンアネルバ |
反応室 Φ300×200hmm 基板ホルダー:外径φ210mm 電極:Φ208mm 電極間隔:15〜50mm可変 使用ガス:SiH4(100sccm)・NH3(100sccm)・N2(300sccm)・H2(300sccm)・N2O(300sccm) |
1991年 | ****** |
1693 | スパッタ装置 SBH-2206RDE |
アルバック |
スパッタ室 Φ600×300hmm マグネトロンΦ6”×2基 RF 2kW DC 3kW 真空計付 基板加熱有 DP 10”RP 900L/min |
1986年 | ****** |
1694 | 自動整合器 DMK45 |
京三製作所 |
27.12MHz 4.5KW 自動タイプ 冷却方式 水冷 |
2000年 | ****** |
1696 | ロードロックスパッタ装置 SPF-420H・L |
キヤノンアネルバ |
ターゲットΦ6” 2基 基板加熱 150℃・200℃ DC4.5kW RF1.5kW 逆スパッタ付 クライオ8”×2台 RP 610L/min |
1985年 | ****** |
1699 | ロードロック付ドライエッチング装置 L-210D-L |
キヤノンアネルバ |
SUSチャンバー Φ200×160hmm エッチング電極 φ120mm RF 500W ターボ 200L/s 50L/s RP 280L/min 90L/min |
1993年 | ****** |
1705 | ロードロックスパッタ装置 L-430S-FHL |
キヤノンアネルバ |
SUSチャンバー W1020×D480×180hmm ターゲットΦ4” 3基 RF600W 基板加熱 300℃ クライオ 1600L/s RP 500L/min |
1998年 | ****** |
1707 | ドライエッチング装置 CSE-1110 |
アルバック |
SUSチャンバー Φ450×200hmm RIE、エッチングアップ方式 電極Φ250 1基 RF電源 500W DP6” メカブ 100m3/h RP 300L/min 650L/min |
1985年 | ****** |
1711 |
真空蒸着装置 SBC-08C |
昭和真空 |
SUSチャンバーΦ450×500hmm 前扉式 EB 5KW 4点 真空計付、膜厚計付 クライオ 8” RP 500/600L/min |
1996年 | ****** |
1712 | Heリークディテクタ HELEN A250M-LD |
キヤノンアネルバ |
電子デバイス用 最小可変リーク量 2×10-11Pa.m3/s以下 排気系 ターボ RP 重量 約165kg |
1998年 | ****** |
1714 |
真空蒸着装置 SEC-08C |
昭和真空 |
SUSチャンバーΦ500×600hmm 前扉式 EB 10KW 4点 EB電源 公転ドーム、真空計付、膜厚計付 クライオ 8” RP 500/600L/min |
2000年 | ****** |
1720 | 高周波電源 RP1000C |
パール工業 |
13.56MHz 1000W 外形寸法 W480×D656×200hmm 自動整合器付 入力 200V 1相 |
1996年 | ****** |
1725 | スパッタ装置 SPP-410H |
キヤノンアネルバ |
スパッタ室 Φ400×140hmm マグネトロン6”1基 RF 3KW 基板加熱有 基板自公転冶具(2” 8枚×3基) DP 6”RP 600L/min |
1980年 | ****** |
1732 |
高周波電源 AX-1000III |
ADTEC |
13.56MHz 1KW 空冷 外形寸法 430W×500D×131.5hmm 整合器別 入力 200V 3相 |
2014年 | ****** |
1738 | スパッタ装置 SH-350 |
アルバック |
スパッタ室 Φ500×250hmm マグネトロンΦ4”×3基 逆スパッタ付 RF 1000W 真空計付 基板回転有 DP 6” RP 618L/min |
1988年 | ****** |
1740 | Heリークディテクタ HELIOT301 |
アルバック |
標準タイプ サンプル容量3L以下 感度 10-12〜10-4Pa.m3/s 排気系 ターボ RP 重量 約39kg |
1997年 | ****** |
1741 |
Heリークディテクタ HELEN A-220M-LD |
キヤノンアネルバ |
テストポート KF25 最小可変リーク量 10-12Pa.m3/s 排気系 ターボ RP 重量 75kg |
2000年 | ****** |
1745 | 高周波電源 RP200 |
パール工業 |
13.56MHz 200W 外形寸法 W480×D455×149hmm 重量 28kg 自動整合器付 入力 200V 1相 |
1990年 | ****** |
1746 | ドライエッチング装置 RIB-310 |
キヤノンアネルバ |
ロードロック型 ECRイオン源 プラズマ径 Φ50mm 試料 Φ50mm マイクロ波 2450MHz 600W DP 10” RP 1100L/min 300L/min |
1984年 | ****** |
1750 |
電子銃用電源 HPS-510S |
アルバック |
加速電圧 DC -4kV〜-10kV 最大出力 5KW XY軸スイープ付 外形寸法 W480×D620×300hmm |
2005年 | ****** |
1752 | スパッタ装置 SPF-530H |
キヤノンアネルバ |
スパッタ室 W1200×D580×250hmm (基板ホルダーφ410mm) マグネトロンΦ6”×3基 RF 1200W×3台 真空計付 基板加熱有 クライオ 4000L/s RP 1180L/min |
1996年 | ****** |
1753 |
パルスDC電源 RPG-50 |
ENI |
スパッタ用 50〜250kHz 5kW バイポーラパルスDC 電源本体 W480×D631×132.5hmm ケーブル別 |
2003年 | ****** |
1754 | スパッタ装置 SPC-530H |
キヤノンアネルバ |
スパッタ室560W×560D×620hmm 5”×15”カルーセル型 3基 RF 3KW 真空計付 CP 4000L/s RP 1000L/min |
1980年 | ****** |
1755 | スパッタ装置 SPF-730H |
キヤノンアネルバ |
スパッタ室 W1200×D580×250hmm マグネトロンΦ8”×3基 RF 1200W×3台 真空計付 基板加熱有 DP 3700L/sec RP 1100L/min |
1986年 | ****** |
1756 |
真空排気セット |
吸気接続フランジ:100A 油拡散ポンプ 4インチ 570L/sec 油回転真空ポンプ 200L/min 外形寸法:W530×D480×780hmm 重量:65kg 所要水量:2L/min |
0年 | ****** | |
1758 |
高周波電源 JRF-1500 |
日本電子 |
13.56MHz 1.5kW 外形寸法 W440×D410×170hmm 整合器無 入力 200V 3相 |
1999年 | ****** |
1759 | 高周波電源 OEM-1250 |
ENI |
13.56MHz 1.25kW 外形寸法 430×400×200hmm 整合器無し 入力 200V 1相 |
1999年 | ****** |
1760 | 自動整合器 TAT-11 |
トッキ |
13.56MHz 1.5KW 自動タイプ 冷却方式 水冷 |
1999年 | ****** |
1764 | 高周波電源 OEM-1250 |
ENI |
13.56MHz 1.25kW 外形寸法 430×400×200hmm 整合器無し 入力 200V 1相 |
2000年 | ****** |
1765 | 高周波電源 AX1000AMII |
ADTEC |
13.56MHz 1KW 空冷 外形寸法 430W×536D×220hmm 整合器別 入力 200V 3相 |
1995年 | ****** |
1767 | スイープコントローラ EGP-212S |
キヤノンアネルバ |
コイル電源出力 AC X 2Ap-p周波数:50〜100Hz Y 2Ap-p 周波数:5〜10Hz 外形寸法 W265×D549×149hmm 入力 AC200V 1相 |
2004年 | ****** |
1768 |
高周波電源 JEH005TS |
日本電子 |
13.56MHz 500W 外形寸法 480W×500D×200hmm 自動整合器付 入力 200V 1相 |
1998年 | ****** |
1769 | 電子銃用電源 JST-3F |
日本電子 |
高電圧 DC -4〜-8kV 最大出力 6.4KW X・Y軸スイープ付 外形寸法 570W×760D×1545hmm |
1998年 | ****** |
1770 | 高周波電源 CESAR1320 |
AE |
13.56MHz 2kW 外形寸法 W482×D550×133hmm 整合器無し 水冷 |
2005年 | ****** |
1771 | 高周波電源 AX1000 |
ADTEC |
13.56MHz 1KW 空冷 外形寸法 430W×536D×220hmm 整合器別 入力 200V 3相 |
1994年 | ****** |
1772 | スパッタ装置 SPC-530H |
キヤノンアネルバ |
スパッタ室 560W×560D×620hmm 5”×15”カルーセル型 2基 RF 3KW 真空計付 CP 4000L/s RP 1000L/min |
1982年 | ****** |
1773 | スパッタ装置 SPC-530H |
キヤノンアネルバ |
スパッタ室 560W×560D×620hmm 5”×15”カルーセル型 3基 DC 3KW 真空計付 CP 4000L/s RP 1000L/min |
1981年 | ****** |
1775 |
真空蒸着装置 BMC-900T |
シンクロン |
チャンバーΦ900×1240hmm EB 24点式 10KW EB電源 抵抗加熱10kVA 真空計 基板加熱MAX350℃ 常用300℃ イオンガン φ120mm DP 18”(2) MBP ドライポンプ |
1998年 | ****** |
1776 | スパッタ装置 SPF-312H |
キヤノンアネルバ |
スパッタ室 Φ350×250hmm マグネトロンΦ6”×1基 RF 500W 真空計付 基板加熱有 DP 4”RP 260L/min |
1991年 | ****** |
1779 |
スパッタ装置 SC-708 |
サンユー電子 |
スパッタ室Φ240×D240mm 電極 Φ8” 1基 電源 DC/AC 1KV 0〜50mA ニードルバルブ付 RP 100L/min |
2001年 | ****** |
1780 |
電子銃用電源 EGP-230 |
キヤノンアネルバ |
最大出力:3KW 出力電圧:DC 0〜5kV 出力電流(エミッション):0〜600mA フィラメント出力:AC8V/6V×35A(内部コネクタにて切換) |
1994年 | ****** |
1781 | スイープコントローラ EGP-212S |
キヤノンアネルバ |
コイル電源出力 AC 4台有 X 2Ap-p周波数:50〜100Hz Y 2Ap-p 周波数:5〜10Hz 外形寸法 240(190)W×550D×150hmm 入力 AC200V 1相 |
1994年 | ****** |
1782 | 電子銃用電源 JST-16F |
日本電子 |
DC-4〜-10kV 0〜1.6A 最大出力 16KW 外形寸法 570W×760D×1545hmm |
2015年 | ****** |
1783 |
高周波電源 RFS-1305A |
アルバック |
13.56MHz 500W 空冷 外形寸法 430W×450D×149hmm 自動整合器付 入力 200V 3相 |
2008年 | ****** |
1784 | 高周波電源 TX10-0090 |
ADTEC |
13.56MHz 1KW 空冷 外形寸法 215W×498D×145hmm 自動整合器付 入力 200V 3相 |
2015年 | ****** |
1785 | 高周波電源 TX03-0090 |
ADTEC |
13.56MHz 300W 空冷 外形寸法 215W×498D×145hmm 自動整合器付 入力 200V 3相 |
2015年 | ****** |
1787 | 真空蒸着装置 EBH-6 |
アルバック |
SSベルジャー Φ450×450hmm 抵抗3基 100A DP 6” RP 330L/min 装置寸法 W1130×D850×2450hmm |
1972年 | ****** |
1788 | スパッタ装置 SH-350E |
アルバック |
スパッタ室 Φ500×220hmm マグネトロンΦ4”×3基 デポアップ 逆スパッタ付 DC 2kW RF 0.5kW 真空計付 基板回転 基板加熱300℃ CP 6” RP 309/253L/min |
1999年 | ****** |
1789 | ランプ加熱装置 VHC-P610/7085 |
真空理工(アドバンス理工) |
熱処理ゾーンφ50×100hmm max 1300℃ 均熱ゾーンφ40×80hmm 100℃から1000℃ RP 150L/min 温度コントローラー |
1987年 | ****** |
1790 | 高周波電源 RFK-30ZC |
京三製作所 |
13.56MHz 3KW 水冷 外形寸法 480W×600D×199hmm 自動整合器付 入力 200V 3相 3台有 |
2000年 | ****** |
1791 |
高周波電源 JRF-3000 |
日本電子 |
13.56MHz 3kW 外形寸法 W440×D410×170hmm 自動整合器付 入力 200V 3相 |
1997年 | ****** |
1792 | 電子銃用電源 JST-10F |
日本電子 |
高電圧 DC -4kV〜-10kV 0〜1A 最大出力 10KW X・Y軸スイープ付 外形寸法 W570×D760×1545hmm |
1998年 | ****** |
1793 | 電子銃 JEBG-102RH4G1 |
日本電子 |
180° 10kW Φ61×15mmh EBG-10DR4 回転ルツボ 適用電源 :JST-3F、JST-10F、JST-16F 2台有 |
1998年 | ****** |
1794 | 電子銃 JEBG-102UH0 |
日本電子 |
180° 10kW ハース ループタイプ 適用電源 :JST-3F、JST-10F、JST-16F |
1998年 | ****** |
1795 | 真空蒸着装置 ACE-1150DSN |
シンクロン |
チャンバー内寸 約1100W×約1000D×約1200hmm EB φ40×15mm 30点式×2 EB電源 10kW 光学式膜厚計 OPM-8 基板加熱 MAX350℃(250℃基準) DP 20”2台 メカブ 600m3/h ドライポンプ 2400L/m |
2005年 | ****** |
1796 |
真空蒸着装置 LDCU-36PV-120 |
芝浦 |
チャンバー1200D×1240W×1480hmm 蒸発源 抵抗加熱式フィラメント 蒸発電源 10V 1500A 15kVA DP 36” MB 40000L/min RP 7500L/min台 |
1974年 | ****** |
1797 | 真空排気セット ST350(特) |
大阪真空 |
ターボ分子ポンプ TH350 油回転ポンプ 310/260L/min 外形寸法:400W×650D×(540hmm+205hmm) |
1994年 | ****** |
1799 |
真空蒸着装置 VPC-260 |
アルバック機工 |
ガラスベルジャー φ300×300hmm DP 250L/s、RP 100L/m 蒸発電極 1点式 0〜10V MAX150A 外形寸法 530×480×1135hmm |
2001年 | ****** |
1800 |
リターンバック式スパッタリング装置 SPL-342V |
キヤノントッキ |
5”×10”×2枚 2種類 プレーナマグネトロンカソード 成膜有効範囲 W300×H130 基板加熱 MAX200℃ 常用150℃ DC電源 出力6kW 400〜1000VDC 排気系 CP+RP |
2011年 | ****** |
1801 | DC電源 MDX Pinnacle |
AE |
6KW デュアル出力 外形寸法 W485×D565×135hmm 入力 200V 3相 ケーブル別 2台有 |
2001年 | ****** |
1802 |
高周波電源 RFXII-1250 |
AE |
13.56MHz 1250W 外形寸法 W267×D216×178hmm 整合器 TCM/AZX40 入力 200V 1相 |
1995年 | ****** |
1803 | パルスDC電源 RPG-100 |
ENI |
スパッタ用 50〜250kHz 10kW バイポーラパルスDC 入力 200V 3相 ケーブル別 2台有 |
1997年 | ****** |
1804 | DC電源 MDX 5K |
AE |
出力 5000W 入力 380V/415V 3相 空冷 電源本体 W485×D565×175hmm |
1995年 | ****** |
1805 | 電子銃 JEBG-102UH0 |
日本電子 |
180° 10kW ルツボ24点 適用電源 :JST-3F、JST-10F、JST-16F |
1998年 | ****** |
1806 |
Heリークディテクタ HELEN M-222LD-D |
キヤノンアネルバ |
テストポート KF25 最小可変リーク量 10-12Pa.m3/s台 排気系 ターボ スクロールポンプ 重量 75kg |
2006年 | ****** |
1807 |
電子銃 BS60030DGN |
日本電子 |
270° 10kW XYスキャン幅/ポジション移動 最大Φ40mm(-6kVの時) ルツボ なし 適用電源 :JST-3F、JST-10F、JST-16F |
2007年 | ****** |
1808 |
真空蒸着装置 BMC-800T |
シンクロン |
チャンバーΦ800×1100hmm(有効高さ1040mm) EB 6点式 EB電源 JST-3F 真空計 光学式膜厚計 OPM-8 基板加熱 MAX350℃(300℃基準) DP 18”(2台) RP |
1990年 | ****** |
1809 |
Heリークディテクタ HELIOT 701W1 |
アルバック |
最小可変リーク量 10-13Pa.m3/s(スーパーファインリークフロー設定) 排気系 複合分子ポンプ RP ハンディリモートコントローラ RCH7 寸法 W480×D335×505hmm |
2003年 | ****** |
1812 | スパッタ装置 BSC-10021T |
シンクロン |
スパッタ室 W1040×D970×H1600mm 5”×42” カルーセル型 2基 DC10kW CP×2 MBP+RP |
1998年 | ****** |
1813 | 高周波電源 RFK-30ZC |
京三製作所 |
13.56MHz 3KW 水冷 外形寸法 480W×600D×199hmm 自動整合器付 入力 200V 3相 |
1999年 | ****** |
1814 | パルスDC電源 Pinnacle plus |
AE |
5KW 電圧範囲 325〜800VDC、5kHz〜350kHzパルス 最大電流 15.4A 入力 200/208VAC 3相 |
2013年 | ****** |
1815 | 高周波電源 RF-650 |
東京ハイパワー |
13.56MHz 0〜500W 空冷 外形寸法 W220×D350×99hmm 出力コネクタ同軸N-R型 入力AC200V |
2011年 | ****** |
1816 | 真空蒸着装置 EBX-6D |
アルバック |
SUSチャンバーΦ500×600hmm 前扉式 抵抗加熱 3点 真空計 公転冶具付 DP 6” RP 600L/min |
1985年 | ****** |
1817 | スパッタ装置 SPC-530H |
キヤノンアネルバ |
スパッタ室 560W×560D×620hmm 5”×15”カルーセル型 2基 RF 3KW 真空計付 CP 4000L/s RP 1000L/min |
1985年 | ****** |
1818 | ロードロックスパッタ装置 SDL3320 |
神港精機 |
SP室 SUSチャンバー φ350×300hmm LL室 SUSチャンバー W320×D400×200hmm ターゲットφ75mm 3基 DC3kW 基板加熱 300℃ ターボ 280L/s SP 500L/min |
2001年 | ****** |
1819 | ドラム式スパッタ装置 SV-4540-C12 |
アルバック |
スパッタ室 φ630×640hmm 5”×18”プレーナマグネトロン サイドスパッタ方式 RF 3KW 真空計付 CP12” MBP RP |
2001年 | ****** |
1821 | DC電源 HPK-10ZI |
京三製作所 |
スパッタ用 10KW 入力 200V 3相 電源本体 W480×D600×150hmm 重量 45kg |
2001年 | ****** |
1824 | 走査型プローブ顕微鏡 JSPM-5400B |
日本電子 |
分解能:面内0.1nm 垂直0.01nm 試料サイズ:50mmx50mmx5tmm(最大) 10mmx10mmx3tmm(標準) |
2005年 | ****** |
1825 | 真空蒸着装置 BMC-1300 |
シンクロン |
チャンバーΦ1300×1660hmm(有効高さ1500mm) EB 12点式×2 10KW EB電源 JST-10F 光学式膜厚計 OPM-8 基板加熱 MAX450℃(350℃基準) DP 22”2台 メカブ 600m3/h RP 3000L/m |
1996年 | ****** |
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