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| No. | 品名 型式 |
メーカー | 概略仕様 | 製造年 | 価格 |
|---|---|---|---|---|---|
1154 |
ベルジャー付真空排気装置 EBS-10A |
アルバック |
SUSベルジャーΦ650×650hmm カラーΦ650×300hmm 空圧排気型 DP 10” RP 650L/min |
1980年 | ****** |
| 1165 | 電子銃 EGL-35 |
アルバック |
270°偏向型 1点式 10KW ルツボ 1個 40cc Φ50×Φ41×深25mm 適用電源 ： HP-1010F，HP-1610F |
1982年 | ****** |
| 1172 | 電子銃 EGL-20M |
アルバック |
270°偏向型 4点式 6KW ルツボ 4個 20cc Φ50×Φ46×深12mm 適用電源 ： HP-1010F |
1982年 | ****** |
| 1173 | 電子銃 EGL-20M |
アルバック |
270°偏向型 4点式 6KW ルツボ 4個 20cc Φ50×Φ46×深12mm 適用電源 ： HP-1010F |
1982年 | ****** |
| 1283 | スパッタエッチング装置 SPF-710特 |
キヤノンアネルバ |
SUSチャンバー 1335×750×150hmm 平行平板型 RF 5KW 電極Φ550 1基 DP 10” RP 1000L/min |
1982年 | ****** |
| 1292 | チャンバー付真空排気装置 CME90 |
トッキ |
SUS チャンバーΦ900×900hmm 前扉式 クライオ 22”メカブ 600m3/h RP 1800L/min |
1992年 | ****** |
| 1349 | スパッタ装置 FTS-LAB101 |
大阪真空 |
スパッタ室 175×240×300hmm 対向式 スパッタ電極 Φ80 1対 RF 1KW 基板加熱 700℃ ターボ 200L/S RP 360L/min |
1991年 | ****** |
| 1359 | ベルジャー付真空排気装置 EBS-10A |
アルバック |
SSベルジャーΦ650×650hmm カラーΦ450×150hmm 空圧排気型 DP 10” RP 650L/min |
1974年 | ****** |
| 1423 | ドライエッチング装置 DEA-503 |
キヤノンアネルバ |
SUSチャンバー Φ600×220hmm 平行平板型 RF 1KW 電極Φ470 1基 DP 10” メカブ 100m3/h RP 1300L/min |
1986年 | ****** |
| 1431 | インライン式スパッタ装置 SPH-3022 |
昭和真空 |
ターゲット 5”×7” 4基 縦型両面可 トレイ 300L×150hmm ローダー20枚 DC 2KW 2台 加熱 150℃ クライオ 6” 2台 8”1台 RP 650L/min 3台 |
1992年 | ****** |
| 1448 | ベルジャー付真空排気装置 EVD-500A |
キヤノンアネルバ |
SUSベルジャーΦ500×750hmm φ90窓2個 カラーΦ500×130hmm CF70ポート15個 排気自動 DP 8” RP 650L/min |
1984年 | ****** |
| 1451 | 高周波電源 RF2000 |
パール工業 |
13.56MHz 2KW 外形寸法 535×770×760hmm 手動整合器付 入力 200V 3相 |
1985年 | ****** |
| 1464 | イオンプレーティング装置 SIP-800 |
昭和真空 |
SUSベルジャーΦ800×1100Lmm 横型 前扉式 EB 10KW 3点 クライオ 20” メカブ 600m3/h RP 1500L/min |
1987年 | ****** |
| 1473 | スパッタ装置 SPL-021 |
昭和真空 |
スパッタ室Φ870×165hmm コンベンショナル Φ21” 1基 RF 10KW マスフロー Ar 1台 ターボ 10” RP 950L/min |
1998年 | ****** |
| 1498 | 電子銃 EGL-35M |
アルバック |
270°偏向型 4点式 10KW ルツボ 4個 40cc ×2 10cc ×2 X軸、Y軸偏向可能 適用電源 ：HP-1010F，HP-1610F |
1989年 | ****** |
1509 |
スパッタ装置 CFS-12P-100 |
芝浦 |
スパッタ室Φ1000×250hmm マグネトロン 8” 3基 逆スパッタ付 RF 3KW 1台 オートマッチングBOX付 DP 12” RP 1200L/min |
1982年 | ****** |
1512 |
スパッタ装置 SLC-11S |
島津製作所 |
LD室 370×550×450hmm スパッタ室 650×550×450hmm マグネトロン 6” 3基 RF 1KW DC 2KW 膜厚計付 LD室 ターボ 5”スパッタ室 クライオ 12” RP 900L/min |
1986年 | ****** |
| 1523 | イオンプレーティング装置 EBX-10DIP |
アルバック |
SUSチャンバーΦ650×800hmm 前扉式 EB 10KW 4点式 1台、抵抗 2基 公転冶具、DC 2KV、RF 500W DP 10” RP 950L/min |
1982年 | ****** |
| 1534 | 高電圧電源 SR100P5 |
スペルマン |
電圧 DC +100KV 電流 50mA 入力 200V 3相 正極性 外形寸法 482×482×266hmm |
1985年 | ****** |
| 1540 | 電子銃 EGK-3 |
アルバック |
225°偏向型 1点式 5KW ルツボ 1個 2.6cc Φ21×Φ15.6×深10mm 適用電源 ： HP-510C |
1986年 | ****** |
| 1549 | 真空蒸着装置 SEC-20C |
昭和真空 |
SUSチャンバーΦ850×2200hmm 前扉式 抵抗加熱 8基 公転冶具・膜厚計・真空計付 クライオ 20” メカブ 300m3/h RP 3000L/min |
1993年 | ****** |
| 1553 | スパッタ装置 SC-708 |
サンユー電子 |
スパッタ室Φ240×D240mm 電極 Φ8” 1基 電源 DC/AC 1KV 0〜50mA ニードルバルブ付 RP 100L/min |
1988年 | ****** |
| 1555 | ドライエッチング装置 OMPM-306B |
東京応化 |
平行平板 φ230電極 RF 300W 2台 ガス O2、CF4、SF6、C2Cl2F4 ターボ 4” RP 650L/min |
1990年 | ****** |
| 1574 | 電子銃 EBG-102F6RAC |
日本電子 |
180°偏向型 3KW フィラメント自動交換機構付き るつぼ別 適用電源 ：JST-10F、JST-16F |
1989年 | ****** |
1579 |
電子銃 JEBG-163MB |
日本電子 |
270°偏向型 16KW るつぼ (Φ68.1mm ×1） 金属材料専用(AL、Cu等) 適用電源 ：JST-10F、16F |
2000年 | ****** |
| 1584 | プラズマ銃電源 EPC-3000 |
日本電子 |
制御方式：手動・半自動・外部制御切替 半自動・外部制御時はシーケンサ制御 制御機器：カソード加熱電源・コイル電源 放電電源・マスフローコントローラ |
2000年 | ****** |
| 1591 | スパッタ装置 SPF-410H |
キヤノンアネルバ |
スパッタ室 Φ400×140hmm マグネトロン12”1基 RF 5KW 真空計付 基板加熱有 DP 6”RP 600L/min |
1980年 | ****** |
1592 |
スパッタ装置 SPC-530H |
キヤノンアネルバ |
スパッタ室560W×560D×620hmm 5”×15”カルーセル型 2基 RF 5KW 真空計付 DP 10”RP 1000L/min |
1980年 | ****** |
| 1602 | 高周波電源 PLASMALOC2-HF |
ENI |
100kHz〜450kHz 1.4kW RFコネクター Type C 入力 115V ±8% 35amps max. 外形寸法 W432×D650×445hmm 重量 87kg |
1995年 | ****** |
| 1619 | 真空蒸着装置 EBX-10C |
アルバック |
SUSチャンバーΦ650×800hmm 前扉式 抵抗加熱 3基 真空計 膜厚計 公転冶具付 クライオ 10” RP 950L/min |
1982年 | ****** |
1632 |
ロードロックスパッタ装置 MLH-6315E |
アルバック |
ターゲット 5”×15” 3基 トレイ2枚/バッチ基板加熱 150℃ DC10kW 2台 逆スパッタ付 クライオ10”、12”各1台 RP 950L/min |
1983年 | ****** |
1638 |
スパッタ装置 CFS-12P-100 |
芝浦 |
スパッタ室Φ1000×250hmm マグネトロン 8” 3基 逆スパッタ付 RF 4KW 1台 オートマッチングBOX付 クライオ 12” RP 1200L/min |
1991年 | ****** |
| 1639 | ビームスイープコントローラー PSG-004 |
アルバック |
入力電圧 AC100V±10% 50/60Hz 1Φ 外形寸法 480W×250D×50hmm 外部入力信号 HEARTH 1〜4及びSWEEP切換 適応EB電源 HP-1010F HP-1610F |
1990年 | ****** |
1640 |
電子銃 EGK-3 |
アルバック |
225°偏向型 1点式 5KW ルツボ 1個 2.6cc Φ21×Φ15.6×深10mm 適用電源 ： HP-510C |
1990年 | ****** |
| 1651 | 電子銃用電源 JST-10F |
日本電子 |
高電圧 DC -4kV〜-10kV 0〜1A 最大出力 10KW X・Y軸スイープ付 外形寸法 W570×D760×1545hmm |
2003年 | ****** |
1653 |
高周波電源 RFK-50ZC |
京三製作所 |
13.56MHz 5KW 水冷 RFユニット：480W×550D×200hmm DCユニット：480W×550D×150hmm 自動整合器付 入力 200V 3相 |
1998年 | ****** |
| 1655 | 高周波電源 AX1000LFII |
ADTEC |
430kHz 1KW 強制空冷 外形寸法 430W×445D×220hmm 整合器トランス付 入力 200V 3相 |
2002年 | ****** |
| 1660 | 自動整合器 DMK-18 |
京三製作所 |
27.12MHz 1.8kW 自動タイプ 冷却方式 水冷 2台有 |
2000年 | ****** |
| 1663 | 自動整合器 MBK75 |
京三製作所 |
13.56MHz 7.5kW 自動タイプ 水冷 コントローラー MAK5A |
1999年 | ****** |
| 1669 | 2ポイントコントローラー ST-2PNS |
日本電子 |
JST-F EB電源用 外形寸法 480×350×50hmm 電子ビーム照射量の比 100:1〜1：100 |
1998年 | ****** |
| 1671 | 電子銃 980-7310 |
キヤノンアネルバ |
1点式 10KW ルツボ 10ml φ34×φ18×深18mm スキャンニング範囲X:±15mm Y:±8mm EGP-210RS等 2台有 |
1996年 | ****** |
| 1681 | 高周波電源 AX1000II |
ADTEC |
13.56MHz 1KW 空冷 外形寸法 430W×536D×220hmm 整合器別 入力 200V 3相 |
1996年 | ****** |
| 1689 | プラズマCVD装置 PED-301 |
キヤノンアネルバ |
反応室 Φ300×200hmm 基板ホルダー：外径φ210mm 電極：Φ208mm 電極間隔：15〜50mm可変 使用ガス：SiH4(100sccm)・NH3(100sccm)・N2(300sccm)・H2(300sccm)・N2O(300sccm) |
1991年 | ****** |
1691 |
真空蒸着装置 BMC-700 |
シンクロン |
チャンバーΦ700×1260hmm(有効高さ1210mm） EB 3点式 10KW EB電源 D10001 抵抗加熱 4KW 真空計・水晶式膜厚計 光学式膜厚計 OPM-8 基板加熱 イオンガン φ50mm クライオ 22”メカブ RP |
1999年 | ****** |
| 1693 | スパッタ装置 SBH-2206RDE |
アルバック |
スパッタ室 Φ600×300hmm マグネトロンΦ6”×2基 RF 2kW DC 3kW 真空計付 基板加熱有 DP 10”RP 900L/min |
1986年 | ****** |
| 1694 | 自動整合器 DMK45 |
京三製作所 |
27.12MHz 4.5KW 自動タイプ 冷却方式 水冷 |
2000年 | ****** |
| 1696 | ロードロックスパッタ装置 SPF-420H・L |
キヤノンアネルバ |
ターゲットΦ6” 2基 基板加熱 150℃・200℃ DC4.5kW RF1.5kW 逆スパッタ付 クライオ8”×2台 RP 610L/min |
1985年 | ****** |
1698 |
イオン注入装置 UP-150 |
アルバック |
エネルギー範囲 30〜150keV（75AsイオンはMAX80keV) イオン種 11B 31P 75AS 最大ビーム電流 11B 31P 50μA以上（150keV、1価イオン） 75As 50μA以上（80keV、1価イオン） 対応ウエハサイズ 5インチ ターボ 10” RP 950L/min |
1998年 | ****** |
| 1699 | ロードロック付ドライエッチング装置 L-210D-L |
キヤノンアネルバ |
SUSチャンバー Φ200×160hmm エッチング電極 φ120mm RF 500W ターボ 200L/s 50L/s RP 280L/min 90L/min |
1993年 | ****** |
| 1705 | ロードロックスパッタ装置 L-430S-FHL |
キヤノンアネルバ |
SUSチャンバー W1020×D480×180hmm ターゲットΦ4” 3基 RF600W 基板加熱 300℃ クライオ 1600L/s RP 500L/min |
1998年 | ****** |
1706 |
スパッタ装置 SPF-530H |
キヤノンアネルバ |
スパッタ室 W1200×D580×250hmm （基板ホルダーφ410mm） マグネトロンΦ6”×3基 RF 2400W 逆スパッタ付 真空計付 基板加熱有 クライオ 4000L/s RP 1180L/min |
1992年 | ****** |
| 1707 | ドライエッチング装置 CSE-1110 |
アルバック |
SUSチャンバー Φ450×200hmm RIE、エッチングアップ方式 電極Φ250 1基 RF電源 500W DP6” メカブ 100m3/h RP 300L/min 650L/min |
1985年 | ****** |
| 1711 | 真空蒸着装置 SBC-08C |
昭和真空 |
SUSチャンバーΦ500×600hmm 前扉式 EB 5KW 4点 真空計付、膜厚計付 クライオ 8” RP 500/600L/min |
1996年 | ****** |
| 1712 | Heリークディテクタ HELEN A250M-LD |
キヤノンアネルバ |
電子デバイス用 最小可変リーク量 2×10-11Pa.m3/s以下 排気系 ターボ RP 重量 約165kg |
1998年 | ****** |
| 1714 | 真空蒸着装置 SEC-08C |
昭和真空 |
SUSチャンバーΦ500×600hmm 前扉式 EB 10KW 4点 EB電源(新品） 公転ドーム、真空計付、膜厚計付 クライオ 8” RP 500/600L/min |
2000年 | ****** |
1715 |
高周波電源 AX-1000III |
ADTEC |
13.56MHz 1KW 空冷 外形寸法 430W×500D×131.5hmm 整合器別 入力 200V 3相 |
2007年 | ****** |
1719 |
DC電源 HPK-06Z |
京三製作所 |
スパッタ用 6KW 10A 入力 200V 3相 電源本体 W480×D500×124hmm 重量 35kg |
1996年 | ****** |
| 1720 | 高周波電源 RP1000C |
パール工業 |
13.56MHz 1000W 外形寸法 W480×D656×200hmm 自動整合器付 入力 200V 1相 |
1996年 | ****** |
| 1725 | スパッタ装置 SPP-410H |
キヤノンアネルバ |
スパッタ室 Φ400×140hmm マグネトロン6”1基 RF 3KW 基板加熱有 基板自公転冶具(2” 8枚×3基） DP 6”RP 600L/min |
1980年 | ****** |
1727 |
電子銃用電源 EGP-210RS-B |
キヤノンアネルバ |
EB電源：最大出力 10KW X・Y軸スイープ付 |
2004年 | ****** |
1729 |
Heリークディテクタ（未使用品） L300i |
ライボルト |
ハンディタイプ 最小検出ヘリウムリーク量 5x10-13Pa.m3/s 吸気口 KF25 |
2014年 | ****** |
| 1730 | 高周波電源 RP500 |
パール工業 |
13.56MHz 500W 自動整合器 M-05A付 入力 200V 3相 |
1990年 | ****** |
1731 |
真空排気セット PMB-006C + KP-3000AG |
アルバック + 丸山真空 |
アルバック製 PMB-006C、丸山真空製 KP-3000AG 外形寸法 W950×D950×1400hmm |
2000年 | ****** |
| 1732 | 高周波電源 AX-1000III |
ADTEC |
13.56MHz 1KW 空冷 外形寸法 430W×500D×131.5hmm 整合器別 入力 200V 3相 |
2014年 | ****** |
1734 |
自動整合器 M-05A |
パール工業 |
13.56MHz 500W 自動タイプ 水冷 コントローラー ZDK-916 |
1990年 | ****** |
1735 |
高周波電源 AX-600III |
ADTEC |
13.56MHz 600W 空冷 外形寸法 430W×500D×131.5hmm 整合器別 入力 200V 3相 |
2010年 | ****** |
| 1738 | スパッタ装置 SH-350 |
アルバック |
スパッタ室 Φ500×250hmm マグネトロンΦ4”×3基 逆スパッタ付 RF 1000W 真空計付 基板回転有 DP 6” RP 618L/min |
1988年 | ****** |
| 1740 | Heリークディテクタ HELIOT301 |
アルバック |
標準タイプ サンプル容量3L以下 感度 10-12〜10-4Pa.m3/s 排気系 ターボ RP 重量 約39kg |
1997年 | ****** |
| 1741 | Heリークディテクタ HELEN A-220M-LD |
キヤノンアネルバ |
テストポート KF25 最小可変リーク量 10-12Pa.m3/s 排気系 ターボ RP 重量 75kg |
2000年 | ****** |
1743 |
高周波電源 PEII 10K |
AE |
40kHz 10kW 外形寸法 W482×D635×177hmm 水冷 |
1998年 | ****** |
| 1744 | スパッタ装置 SPF-332H |
キヤノンアネルバ |
スパッタ室 Φ350×250hmm マグネトロンΦ80mm×3基 RF 650W 真空計付 基板加熱有 DP 4”RP 260L/min |
1992年 | ****** |
| 1745 | 高周波電源 RP200 |
パール工業 |
13.56MHz 200W 外形寸法 W480×D455×149hmm 重量 28kg 自動整合器付 入力 200V 1相 |
1990年 | ****** |
| 1746 | ドライエッチング装置 RIB-310 |
キヤノンアネルバ |
ロードロック型 ECRイオン源 プラズマ径 Φ50mm 試料 Φ50mm マイクロ波 2450MHz 600W DP 10” RP 1100L/min 300L/min |
1984年 | ****** |
1747 |
高周波電源 CESAR1312 |
AE |
13.56MHz 1.2kW 外形寸法 W482×D500×88hmm 自動整合器付 アステック TH30R コントローラー RC-11 強制空冷 |
2000年 | ****** |
| 1750 | 電子銃用電源 HPS-510S |
アルバック |
加速電圧 DC -4kV〜-10kV 最大出力 5KW XY軸スイープ付 外形寸法 W480×D620×300hmm |
2005年 | ****** |
1751 |
真空蒸着装置 EBH-6 |
アルバック |
SSベルジャー Φ450×450hmm 抵抗2基 100A 膜厚計・真空計付 DP 6” RP 330L/min 装置寸法 W1130×D850×2450hmm |
1982年 | ****** |
| 1752 | スパッタ装置 SPF-530H |
キヤノンアネルバ |
スパッタ室 W1200×D580×250hmm （基板ホルダーφ410mm） マグネトロンΦ6”×3基 RF 1200W×3台 真空計付 基板加熱有 クライオ 4000L/s RP 1180L/min |
1996年 | ****** |
| 1753 | パルスDC電源 RPG-50 |
ENI |
スパッタ用 50〜250kHz 5kW バイポーラパルスDC 電源本体 W480×D631×132.5hmm ケーブル別 |
2003年 | ****** |
| 1754 | スパッタ装置 SPC-530H |
キヤノンアネルバ |
スパッタ室560W×560D×620hmm 5”×15”カルーセル型 3基 RF 3KW 真空計付 CP 4000L/s RP 1000L/min |
1980年 | ****** |
| 1755 | スパッタ装置 SPF-730H |
キヤノンアネルバ |
スパッタ室 W1200×D580×250hmm マグネトロンΦ8”×3基 RF 1200W×3台 真空計付 基板加熱有 DP 3700L/sec RP 1100L/min |
1986年 | ****** |
| 1756 | 真空排気セット |
吸気接続フランジ：100A 油拡散ポンプ 4インチ 570L/sec 油回転真空ポンプ 200L/min 外形寸法：W530×D480×780hmm 重量：65kg 所要水量：2L/min |
0年 | ****** | |
1757 |
真空排気セット PMB-003CM + KP-3000A |
アルバック + 丸山真空 |
アルバック製 PMB-003CM、丸山真空製 KP-3000A 外形寸法 W1160×D966mm |
1993年 | ****** |
| 1758 | 高周波電源 JRF-1500 |
日本電子 |
13.56MHz 1.5kW 外形寸法 W440×D410×170hmm 整合器無 入力 200V 3相 |
1999年 | ****** |
| 1759 | 高周波電源 OEM-1250 |
ENI |
13.56MHz 1.25kW 外形寸法 430×400×200hmm 整合器無し 入力 200V 1相 |
1999年 | ****** |
| 1760 | 自動整合器 TAT-11 |
トッキ |
13.56MHz 1.5KW 自動タイプ 冷却方式 水冷 2台有 |
1999年 | ****** |
1761 |
高周波電源 CESAR1330 |
AE |
13.56MHz 3kW 外形寸法 W482×D550×133hmm 整合器無 水冷 |
2000年 | ****** |
1762 |
高周波電源 RF10S |
AE |
13.56MHz 1kW 外形寸法 485W×550D×180hmm 整合器無し 強制空冷 |
1996年 | ****** |
1763 |
高周波電源 RF20S |
AE |
13.56MHz 2kW 外形寸法 480W×550D×220hmm 整合器無し 強制空冷 |
1995年 | ****** |
| 1764 | 高周波電源 OEM-1250 |
ENI |
13.56MHz 1.25kW 外形寸法 430×400×200hmm 整合器無し 入力 200V 1相 |
2000年 | ****** |
| 1765 | 高周波電源 AX1000AMII |
ADTEC |
13.56MHz 1KW 空冷 外形寸法 430W×536D×220hmm 整合器別 入力 200V 3相 |
1995年 | ****** |
1766 |
高周波電源 LF-10A |
AE |
380〜415kHz 1KW 強制空冷 外形寸法 485W×530D×180hmm 入力 200V 1相 |
1995年 | ****** |
| 1767 | スイープコントローラ EGP-212 |
キヤノンアネルバ |
コイル電源出力 AC X 2Ap-p周波数:50〜100Hz Y 2Ap-p 周波数:5〜10Hz 外形寸法 W265×D549×149hmm 入力 AC200V 3相 |
1996年 | ****** |
| 1768 | 高周波電源 JEH005TS |
日本電子 |
13.56MHz 500W 外形寸法 480W×500D×200hmm 自動整合器付 入力 200V 1相 |
1998年 | ****** |
| 1769 | 電子銃用電源 JST-3F |
日本電子 |
高電圧 DC -4〜-8kV 最大出力 6.4KW X・Y軸スイープ付 外形寸法 570W×760D×1545hmm |
1998年 | ****** |
| 1770 | 高周波電源 CESAR1320 |
AE |
13.56MHz 2kW 外形寸法 W482×D550×133hmm 整合器無し 水冷 |
2005年 | ****** |
| 1771 | 高周波電源 AX1000 |
ADTEC |
13.56MHz 1KW 空冷 外形寸法 430W×536D×220hmm 整合器別 入力 200V 3相 |
1994年 | ****** |
| 1772 | スパッタ装置 SPC-530H |
キヤノンアネルバ |
スパッタ室 560W×560D×620hmm 5”×15”カルーセル型 2基 RF 3KW 真空計付 CP 4000L/s RP 1000L/min |
1982年 | ****** |
| 1773 | スパッタ装置 SPC-530H |
キヤノンアネルバ |
スパッタ室 560W×560D×620hmm 5”×15”カルーセル型 3基 DC 3KW 真空計付 CP 4000L/s RP 1000L/min |
1981年 | ****** |
1774 |
真空蒸着装置 VPC-260F |
アルバック機工 |
ガラスベルジャー φ300×300hmm DP 250L/s、RP 100L/m 蒸発電極 1点式 外形寸法 530×480×1135hmm |
1992年 | ****** |
| 1775 | 真空蒸着装置 BMC-900T |
シンクロン |
チャンバーΦ900×1240hmm EB 24点式 10KW EB電源 抵抗加熱10kVA 真空計 基板加熱MAX350℃ 常用300℃ イオンガン φ120mm DP 18”(2) MBP ドライポンプ |
1998年 | ****** |
| 1776 | スパッタ装置 SPF-312H |
キヤノンアネルバ |
スパッタ室 Φ350×250hmm マグネトロンΦ6”×1基 RF 500W 真空計付 基板加熱有 DP 4”RP 260L/min |
1991年 | ****** |
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