中古真空情報 40901

全国の皆さまから寄せられる、様々な真空関連機器の情報を発信して行きます。
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研究開発用 MO-CVD装置
 
メーカー:AIXTRON
型式:AIX200/4
年式:1998年
 
使用基板:2"/3"/4" 各1枚
Gas
N2 6.0 H2 Pd-Diffused
AsH3 100%
PH3   100%
SiH4  100%
P inlet each 3-3.5bar
Forming Gas 5% - 10% H2 in N2
Pneumatic:N2 techn.7-8.5bar
 

Aixtron_IMG_0143.JPG

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2014.09.02.2512